标准编号：GB/T 24575-2009硅和外延片表面Na、Al、K和Fe的二次离子质谱检测方法

标准状态：现行

标准简介：本标准规定了硅和外延片表面Na、Al、K 和Fe的二次离子质谱检测方法。本标准适用于用二次离子质谱法(SIMS)检测镜面抛光单晶硅片和外延片表面的Na、Al、K 和Fe每种金属总量。本标准检测的是每种金属的总量,因此该方法与各金属的化学和电学特性无关。本标准适用于所有掺杂种类和掺杂浓度的硅片。本标准特别适用于位于晶片表面约5nm 深度内的表面金属沾污的检测。本标准适用于面密度范围在(109~1014)atoms/cm2 的Na、Al、K 和Fe的检测。本方法的检测限取决于空白值或计数率*限,因仪器的不同而不同。

英文名称： Test method for measuring surface sodium,aluminum,potassium,and iron on silicon and epi substrates by secondary ion mass spectrometry

中标分类： 冶金>>半金属与半导体材料>>H80半金属与半导体材料综合

ICS分类： 电气工程>>29.045半导体材料

采标情况： MOD SEMI MF 1617-0304

发布部门： 中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局 中国国家标准化管理委员会

发布日期： 2009-10-30

实施日期： 2010-06-01

首发日期： 2009-10-30

提出单位： 全国半导体设备和材料标准化技术委员会

检测流程

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